淺析橢偏儀的成像技術原理
2019-10-28
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橢偏儀的成像技術為超小塊的電影分析和原位橢圓偏振儀測量，流體環(huán)境橢偏測量分析，可以實現(xiàn)結合各種技術，例如布儒斯特角鏡、表面等離子體共振、原子力顯微鏡和石英晶體微天平儀器、磅槽、反射光譜法和太赫茲光譜、拉曼光譜和更多的研究人員使用。這些新的功能，擴展產(chǎn)品的橢偏法的應用領域。橢偏光學顯微技術帶來新的研究也構成的技術，例如在非測量液膜的穩(wěn)定性和顯微成像面上的挑戰(zhàn)等。
橢偏儀應用廣泛在線監(jiān)測薄膜的厚度，對成品率無疑至關重要。然而保鮮膜在傳送帶上的速度堪比百米飛人博爾特，檢測時間又以秒計，其難度可想而知。如此艱巨的任務，橢偏儀將如何完成呢？
在工程師的幫助下，橢偏儀與流水線巧妙地融為一體：
借助的數(shù)據(jù)庫和算法，橢偏儀每2秒即可進行一次的膜厚測量，可以實時跟蹤噴涂量對膜厚的影響：
橢偏儀還可以實時跟蹤石墨烯的沉積過程。
作為半導體科研事業(yè)的兩大主角：光電器件與光伏電池的關系自是不一般。上節(jié)課說過，橢偏儀如今已是光電器件領域的小紅人；那么接下來它與光伏電池的合作自然順理成章。
今天我們就來嘮嘮橢偏儀與光伏電池間的那點事兒。
太陽能硅電池表面層肩負導電、增透兩大關鍵任務，直接影響硅電池基本性能。通過提供硅電池表面層的結構、光學性質(zhì)和電導率等信息，橢偏儀成為硅電池工藝優(yōu)化的堅強后盾。
首先橢偏儀可以直接獲取漸變層的厚度以及表面粗糙度信息，如粗糙層532埃、SnO26582埃、SiCxOy256埃。
與此同時橢偏儀可以獲取漸變層SnO2頂部和底部的光學性質(zhì)：直觀表示出SnO2頂部和底部折射率及吸光系數(shù)隨波長變化發(fā)生的改變：利用這組數(shù)據(jù)，我們可以進一步解析出表面層的減反射性質(zhì)、載子濃度和電導率等等信息。
